納米粒徑與電位分析儀的工作原理分析

NICOMP 380 ZLS&S納米粒徑與電位分析儀采用的設(shè)計理念優(yōu)化結(jié)構(gòu)設(shè)計，充分有效地融合了動態(tài)光散射(Dynamic Light Scattering, DLS)和電泳光散射(ELS)技術(shù)，即可以多角度（步長0.9°）檢測分析液態(tài)納米顆粒系的粒度及粒度分布，又可以小角度測量Zeta電位。粒度測試范圍：0.3nm–10μm。

電泳光散射法（ELS）與粒子的動電（Zeta）電位：

 

ELS 是將電泳和光散射結(jié)合起來的一種新型光散射。它的光散射理論基礎(chǔ)是 準彈性碰撞理論，只是在實驗時在式樣槽中多加一個外電場，帶電粒子即以固定 速度向與帶電粒子電性相反的電極方向移動，與之相應(yīng)的動力光散射光譜產(chǎn)生多普勒漂移，這一漂移正比于帶電粒子的移動速度，因此實驗測得譜線的漂移，就可以求得帶電粒子的電泳速度，從而求得ζ-電位。
 

Nicomp 380 ZLS&S納米粒徑與電位分析儀通過檢測分析膠體顆粒的電泳遷移率測量Zeta電位。Zeta電位是對顆粒之間相互排斥或吸引力的強度的度量，是表征膠體分散系穩(wěn)定性的重要指標，Zeta電位（正或負）越高，體系越穩(wěn)定。Zeta電位表征的是粒子之間的排斥力。由于大部分的水相膠體體系是通過粒子之間的靜電排斥力來保持穩(wěn)定的，粒子之間的排斥力越大，粒子越不容易發(fā)生聚集，膠體也會越穩(wěn)定。Nicomp 380 ZLS&S結(jié)合了動態(tài)光散射技術(shù)（DLS）和電泳光散射法（ELS），實現(xiàn)了同機測試納米粒子分布和Zeta電勢電位。